三星专利泄露事件再起波澜,前高管涉嫌技术窃取,中外媒体纷纷聚焦

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近日,两则关于三星的专利泄露事件再次引发广泛关注。

首先,首尔市警察厅工业技术安全调查组于9月9日宣布,前三星高管 Choi(崔珍爽)因涉嫌窃取三星电子的半导体技术并在中国成立公司被捕。Choi在三星和海力士半导体担任高管期间,非法获取三星用于生产20纳米DRAM半导体的关键工艺技术。2020年,他与中国政府合作成立了成都高真(CHJS),并招募了包括三星前高级研究员在内的多位专家。据悉,他此前还曾尝试与鸿海精密合作在西安建立晶圆厂,虽未成功,但此举依然引发了行业震动。

与此同时,外媒对Mate XT上搭载的三折叠屏技术提出质疑,指控其与6年前三星高管涉嫌转卖三折屏幕专利有关。虽然该指控的证据链并不完善,且Mate XT与三星三折叠工程机的屏幕差距明显,但这一事件仍然加剧了对技术窃取与知识产权保护的关注。

两起事件表明,技术泄露与专利侵权问题在科技行业竞争中的影响力不容小觑,特别是在半导体和显示技术领域,这些关键技术关乎全球市场的竞争格局。

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